• 2021年5月25-27日
  • 澳門威尼斯人金光會展中心

知識產權

在中國的展覽會及知識產權保護

雖然商業會展和商品交易會是進入中國市場的良途,但它們也為知識產權侵權提供了舞臺。在籌劃參與此類會展時,如何保護好知識產權也須加以考慮。 中國有關部門發布的規章措施為權利人及時有效應對知識產權侵權提供了良好的框架性方案。 然而,要充分利用這些知識產權保護措施,積極主動和做好事前的準備工作十分重要。做好中國知識產權方面的功課,並考慮聘請專業人士擬定最符合您具體情況的全面方案。

基礎工作

您在籌劃進入中國市場時對權利進行註冊登記,是知識產權在中國獲得保護的基礎。以下基本舉措將為知識產權保護方案提供堅實基礎:

商標:

• 在中國申請註冊您的商標。該程序約需2年到3年。

• 已取得指定中國的商標國際註冊的,若要進行知識產權維權,需在中國取得商標註冊證明。該程序約需3個月。

• 值得註意的壹個重要問題是,商標在中國政府主辦的或者承認的國際展覽會展出的商品上首次使用的,自該商品展出之日起六個月內,該商標的註冊申請人可以享有優先權。要求優先權的,應當在提出商標註冊申請的時候提出書面聲明,並且在三個月內提交使用該商標的證據等證明文件;未提出書面聲明或者逾期未提交證明文件的,視為未要求優先權。 

• RELX和RE符號是RELX Group plc的商標,需在許可下使用。

著作權:

• 中國是《伯爾尼公約》的成員國,任何產生於《伯爾尼公約》成員國的著作權在中國是自動取得的。請核實此條件是否對您適用。不過,要在展會上以著作權為基礎采取維權行動,應先進行著作權登記。在中國,該程序約需1個月。

專利:

在中國申請註冊您的專利。外觀設計專利的申請程序所需時間不超過1年。實用新型專利的申請所需時間約1年,發明專利的申請所需時間約2年到3年

展會知識產權保護辦法

2006年3月1日生效的《展會知識產權保護辦法》涵蓋了展示會、交易會以及各類經濟技術貿易展覽會。該《辦法》適用於商標權、著作權和專利權保護,為處理展會中發生的各類知識產權侵權提供了框架。

該《辦法》的壹個重要舉措是對於會期在三天以上的展會主辦方規定了壹項義務,即在必要時應設立解決侵權問題的知識產權投訴機構。該投訴機構旨在直接處理侵權行為。該投訴機構的工作人員可對涉嫌侵權的展品現場取樣。

投訴機構收到投訴後,應於24小時內移交地方知識產權主管部門。地方知識產權主管部門應及時依據相關法律法規就此做出決定並及時通知各方當事人以及展會主辦方。案件於展會結束時尚未處理完畢的,可交由相關部門繼續調查。

對基於知識產權投訴的侵權可能采取的處罰措施包括責令停止侵權行為、沒收、銷毀侵權展品及其宣傳材料、罰款。兩次侵權的參展方會被禁止參加下壹屆展會。

註意,未出席展會的外國權利人可以委托當地代理人提出投訴。

需準備的材料

如欲針對展會上發現的侵權行為采取行動,則應事先將必要材料備齊。展會通常持續時間較短,如文件材料有缺漏,難以當場補交。

以下是向展會投訴機構投訴時需提交的材料: 

(壹)合法有效的知識產權權屬證明:

• 商標:商標註冊證或商標註冊證明,並由投訴人簽章確認,商標權利人身份證明(比如企業登記證明);• 專利:應當提交專利證書、專利公告文本、專利權人的身份證明、專利法律狀態證明; 

(二)涉嫌侵權當事人的基本信息;

(三)涉嫌侵權的理由和證據;

(四)委托代理人投訴的,應提交授權委托書。

註意,外國權利人還可能被要求附送相關文件的正式中文譯文。務必提前備妥。

還有壹個重要問題需註意,委托代理人的,需提交經公證認證的授權委托書。公證認證程序可能需幾個星期。在籌劃和準備參加在中國的展會時應把這些情況考慮在內。

其他提示

除了準備采取有關措施應對展會上的侵權之外,還應考慮知識產權對展位的總體設計的影響。

尤應註意新設計和新技術在何處展示。對於展示程度和展示對象詳加區分是很重要的。同樣,向參觀者提供哪些樣品亦需審慎考慮。目前通行的做法是搭建可以將參觀者區隔開來從而不致使任何路過者均能自由查看的封閉展位。

安排包括本地專家在內的適當人員親赴現場以及時應對出現的問題也是十分重要的。 

知識產權告知信息可以擺放在展位周圍以警示潛在的侵權者並強調展品的權利人。此類告知宜以多種語言公示。

補充信息

S&F Intellectual Property 公司從2007年開始派代表參與由勵展博覽集團中國公司(Reed Exhibitions China Ltd.)組織的多種活動並就知識產權問題提供現場咨詢。我們歡迎您造訪我們的展位並會晤我們的專業人士。

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